網訊：光子學世界中的人們擅長的是提出新奇的點子和發明有趣的新鮮事物，同時他們還不斷的推動著現有的光子學技術進步。接下來將為你帶來2013年度光子學及激光領域的前20大進展：

及其測試方法

已經實現了商業化生產，第一臺產品在今年的早些時候被運送到NADEX激光研發中心(位于日本名古屋)，該中心主要針對激光器的材料處理性能開展詳細研究。對于這臺激光器，Ophir Photonics公司(位于猶他州北洛根)特意研發了一種激光功率計，在輸出1070納米的激光時，測程能夠覆蓋到100千瓦。

)進行光刻而言，現如今的技術已經發展到了極限，光刻技術的發展的新方向就是13納米的極紫外(EUV)光刻。與以前一樣的是，光學系統的數值孔徑(NA)越大，其分辨率越高。